Reinstbehälter für die Halbleiterindustrie

WILHELM SCHMIDT Edelstahlbehälter im High-Purity Design werden für Anwendungen eingesetzt die absolute Partikelfreiheit benötigen. Die robusten Behälter aus Edelstahl 316L sind totraumfrei konstruiert, spaltfrei im Orbitalverfahren geschweißt und für höchste Oberflächengüte vollständig elektropoliert. Die Entnahmeausrüstung besteht aus Membranventilen mit Kreuzspülfunktion, die bei der Endabnahme einem Helium-Lecktest unterzogen werden.

Unser Produktprogramm für die Halbleiterindustrie bietet UN-Transportbehälter für Reinstmedien, Prozessbehälter für hochreine Verfahren und Edelstahlbehälter mit ETFE-Innenbeschichtung für metallfreie Anwendungen. Alle Systeme sind ab 0,1 bis 1.400 Liter verfügbar und können für die chemische Gasphasenabscheidung (MOCVD) auch als Bubbler eingesetzt werden.